幻影成像膜的表面是采用真空磁控反应溅射工艺，在膜表面通过镜面反射处理，幻影成像膜保持较高的透过率99.99%的同时也具有高的反射率（镜面外观）。高清晰度成像功能，能使影像产生立体纵深感。